知识产权管理
集成电路布图设计条例修订（一）：保护范围扩到光子、量子芯片
2026年10月2日约 4分钟OZCHINA 编辑部
一、一部 25 年没大修过的条例
2026年7月23日，国务院总理李强签署第842号国务院令，公布修订后的《集成电路布图设计保护条例》，自2026年10月15日起施行。
原条例是2001年4月2日国务院令第300号公布的。这次是它二十多年来的首次系统性修订——不管你是否做芯片，只要产品里有自研的版图设计，都值得看看。
集成电路设计环节处在产业链上游，决定着芯片的性能、功耗与竞争力。而这二十多年里技术形态已经换了一轮：传统晶体管制程逼近工艺与物理边界，光子芯片、量子芯片进入产业化轨道。旧条例的框架，确实到了该修的时候。
二、最瞩目的一处：保护范围扩到了光子、量子
修订后的条例第三条明确：对集成光子、量子等功能的集成电路的布图设计，可以依照本条例的规定予以保护。
这一句的分量在哪？在"什么是集成电路"的定义边界上。
国家工业信息安全发展研究中心知识产权所副所长黄蕴华的解释是，传统集成电路晶体管制程已趋近工艺与物理边界，光子、量子等颠覆性技术不断涌现。而随着光子芯片、量子芯片产品迭代周期缩短，波导排布这类版图架构设计，正成为技术竞争的关切点。
过去这类布图设计是否能落入旧条例"集成电路"的定义，存在解释空间。现在条例直接写明了可以保护——对做前沿芯片的企业来说，这是保护依据的补齐。
三、框架没变，但有两条要记住
保护期 10 年，自登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前的日期为准；但无论是否登记或投入商业利用，自创作完成之日起 15 年后不再受本条例保护（第十七条）。
专有权经登记产生，未经登记的布图设计不受本条例保护（第十二条）。登记不是可选项，而是权利的存在前提。
另有一条容易忽略的边界：保护不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念（第七条）——它护的是三维配置本身，不是设计思路。
本次修订的申请要求、赔偿力度与运用规则，见本系列后两篇。