集成电路布图设计条例修订（四）：申请日决定适用哪套规则

一、条例之外的三份配套文件

2026年9月30日，国家知识产权局一次发布三份布图设计配套文件：修订后的《集成电路布图设计保护条例实施细则》（局令第86号）、《相关审查业务处理过渡办法》（公告第694号）、《集成电路布图设计审查与行政裁决指南》（公告第695号）。

施行日分两层：条例与过渡办法 10月15日、实施细则与指南 10月30日。

按申请日判断登记申请适用哪套规则的路径图

二、分水岭是申请日

过渡办法共十条，核心是第二条：申请日在10月15日以后（含该日）的申请及其专有权，适用修订后条例；在此以前的适用修订前条例，另有特殊规定的除外。

三、老申请也躲不开真实创作

修订后条例第二十条要求申请以真实创作为基础、不得弄虚作假，过渡办法把射程拉长了：

• 第四条：新申请一律按修订后条例办，独创性声明成必备材料。
• 第九条：已提交的申请在初审、复审中，已登记的在依职权撤销中，一并按第二十条审查。
• 第五条：申请日在此以前的登记，任何人发现不符合修订前条例或第二十条的，可请求撤销。

老案子从此多了一个被挑战的入口。

四、指南把能主张什么写细了

指南分三部分：登记审查、复审与撤销、行政裁决，其中侵权判定几条最影响备料。

独创性部分的两个条件与接触加实质相同的判定路径

能主张的须是具有独创性的部分，且同时满足两点：能实现独立电子、光子或量子等功能的区域；在图样中有清晰、可划分的边界。请求人须在请求时圈定主张范围，变更只能在辩论结束前。

侵权判定用接触加实质相同：权利人证明对方有条件接触，两者实质相同时，举证责任转到被请求人。

容易漏的一点：公告只登载著录项目、不含布图设计内容。指南一个案例里，正因请求人证明不了对方查阅过，善意使用抗辩未获支持。

五、现在就能做的三件事

1. 按10月15日划线核对申请日，分清在途申请与新立项的适用规则。
2. 申请书按新标准改：独创性声明圈定区域、写清结构与功能，边界要能在图样上画出来。
3. 复查老案，把设计文档、版图文件、流片记录串成证据链，既答复审查也应对撤销，方法见本站 企业知识产权风险管理实施指南；布图设计可并入 GB/T 29490-2023 知识产权管理体系 管理。

本系列前三篇：（一）保护范围扩到光子、量子芯片、（二）独创性声明成为必备材料、（三）五倍赔偿与三个坑。

本文依据：国务院令第842号《集成电路布图设计保护条例》（2026年7月23日公布）；国家知识产权局令第86号《集成电路布图设计保护条例实施细则》（2026年9月30日公布）；国家知识产权局公告第694号、第695号（2026年9月30日发布）。